Il sistema a plasma Tucano è un reattore in configurazione ad elettrodi piani e paralleli, in cui l’elettrodo superiore viene polarizzato da un generatore mentre l’elettrodo inferiore viene collegato al riferimento di terra. Grazie ad un apposito vassoio, i campioni da processare vengono caricati manualmente dentro la camera di processo, interamente realizzata in alluminio e priva di saldature.
Il sistema Tucano è completamente automatizzato per mezzo di un PLC posto al suo interno che controlla costantemente lo stato dei componenti del sistema e gestisce la sequenza di operazioni necessari per completare una ricetta di processo (configurabile dal cliente e salvata al suo interno). L'unica movimentazione manuale da effettuare è la fase di carico/scarico dei campioni.
Il sistema usa segnali di potenza con frequenza RF (13,56 MHz) per generare il plasma all’interno della sua camera di processo. Il plasma generato dà luogo alla creazione di specie ioniche reattive che agiscono sui primi monolayer della superficie del substrato da trattare. Il processo di etch risultante può essere modificato dai parametri che condizionano lo stato di plasma (flussi gas e potenza di segnale). In questa configurazione avviene solo un leggero fenomeno di self-bias sul campione.
Questo sistema è ideale per R&D o per piccole produzioni e può operare su diversi materiali come ad esempio metallo, plastica, ceramica o carta.
Fra i vari trattamenti attuabili, i più significativi sono:
Pulizia e modifiche superficiali per l’ottenimento di superfici idrofiliche o idrofobiche, utilizzabili per esempio nei seguenti campi applicativi:
Pulizia e modifiche superficiali utilizzabili ad esempio nei seguenti campi applicativi:
Pulizia finale a livello atomico di superfici metalliche e ceramiche dopo lavaggi industriali per migliorarne la verniciabilità o per altri tipi di rivestimenti (es. PVD).
Caratteristiche del prodotto |
● Sistema a plasma da tavolo, semplice e di facile utilizzo |
Specifiche Tecniche | ||
Dimensioni | L x P x A – Footprint | 482 x 532 x 385 mm |
Peso Netto |
34Kg |
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Distanze di rispetto | Destra, Sinistra, Fronte – 600 mm, Retro – 300 mm | |
Camera | Materiale | Alluminio |
Volume Massimo |
5,9 litri - Ø 153 mm L 324 mm | |
Elettrodi | Configurazione elettrodi | Piani e paralleli |
Area di lavoro attiva/Vassoio | 118 mm x 310 mm | |
Distanza utile fra gli elettrodi |
68 mm | |
Materiale | Alluminio | |
Segnale RF | Potenza massima | 200W |
Frequenza | 13,56 MHz | |
Gas di processo | Flussi disponibili | 5, 10, 20, 50, 100 sccm |
Numero massimo di gas | 2 (Mass Flow Controller from MKS Instruments) | |
Interfaccia di controllo | Controllo | PLC |
Interfaccia utente | Display Touchscreen | |
Servizi | Alimentazione elettrica | Monofase + Terra 220/240 VAC, 8 Amax 50/60 Hz, 13 AWG Monofase + Terra 110/120 VAC, 16 Amax, 50/60 Hz, 10 AWG |
Connessione del Gas di processo, tipo e dimensioni | 6 mm OD, Compression Fittings | |
Pressione del Gas di Processo | Da 1 bar min. a 1,5 bar max., regolata | |
Connessione del Purge Gas, tipo e dimensioni | 6 mm OD, Compression Fittings | |
Purge Gas consigliati | N2, Aria | |
Pressione del Purge Gas | Da 0.8 bar min. a 1 bar max., regolata | |
Scarichi | NW16 ISO-KF | |
Compliance | International | CE Marked |
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