Pubblicata Ven, 26 Luglio 2013
Oxford Instruments Plasma Technology & Cornell University will hold a technical seminar addressing
This 1 1/2 day event is on 20th and 21st August, at Cornell University, and will include presentations, discussions, a poster session focussing on latest innovations, and a networking lunch.
Speakers are from key international research institutes, who will discuss their research, and they include:
Prof. Peter Ashburn, Southampton University, UK
Vince Genova, Cornell University
Axel Scherer , Caltech, CA
With more speakers to be announced
In addition, experts in their field from Oxford Instruments & Cornell University will speak on the latest process and applications developments in a number of plasma processing areas.
Presentations currently include:
Presentations currently include:
ALD applications
An overview of Plasma ALD process
MEMS process
Dielectric Etching at the nanoscale
Fine dimension metal and metal compound etching
PECVD & ICP CVD
This event is free of charge, but registrations must be submitted [online] in advance to facilitate planning. Please register by Monday, August 12th
For any further information please contact: nancy.crouch@oxinst.com
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