Questo sito utilizza cookie tecnici, inoltre sono installati cookie di terze parti (tecnici e profilanti). Chiudendo questo banner, l'utente accetta l'utilizzo di tutti i cookie. Per consultare l'informativa cookie completa visitare questa pagina.

OK

TECNICA

Plasma etching

Con questo termine si intende un attacco superficiale del substrato per mezzo di un gas reattivo di processo.
Il materiale viene asportato in fase gassosa ed espulso dalla pompa da vuoto.
La superficie diviene molto ampia a causa del bombardamento del gas ionizzato.
Laboratori di ricerca e industria sono i potenziali utilizzatori di questa tecnica.

Alcuni esempi di applicazioni sono:

  • Asportazione di fotoresist
  • Attacco del silicio
  • Attacco e modifica superficiale di polimeri fluorurati
  • Microattacco metalli